ビーム整形装置および光量モニター装置
文献类型：专利
| 作者 | 西脇 青児; 百尾 和雄; 高橋 雄一 |
| 发表日期 | 2003-10-31 |
| 专利号 | JP2003307710A |
| 著作权人 | MATSUSHITA ELECTRIC IND CO LTD |
| 国家 | 日本 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | ビーム整形装置および光量モニター装置 |
| 英文摘要 | 【課題】 従来のビーム整形素子では偏光方向とグレーティング方位との整合がとれず、全体として回折効率が悪くなる課題があった。 【解決手段】 半導体レーザー等の光源1を出射するレーザー光3はビーム整形素子2に入射し、その第1面2aを回折して1/2波長板2cを透過し、第2面2bで回折してビームの広がりが円形分布に整形された状態で出射する。ビーム整形素子2の第1面2aに入射する時は偏光状態はp波(矢印5の偏光方向)であったが、1/2波長板2cを透過することでS波(矢印5dの偏光方向)に変換され、第2面2bに入射するとき、およびその後の偏光状態もS波である。ビーム整形素子2を出射後の光は偏光ビームスプリッタ8の偏光面8aを反射し、この光がビームの広がりの整形された光源として使用される。 |
| 公开日期 | 2003-10-31 |
| 申请日期 | 2002-04-17 |
| 状态 | 失效 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/60823]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | MATSUSHITA ELECTRIC IND CO LTD |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 西脇 青児,百尾 和雄,高橋 雄一. ビーム整形装置および光量モニター装置. JP2003307710A. 2003-10-31. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。