露光ヘッド及び露光装置
文献类型：专利
| 作者 | 石川 弘美; 岡崎 洋二; 永野 和彦; 藤井 武; 山川 博充 |
| 发表日期 | 2004-01-08 |
| 专利号 | JP2004001244A |
| 著作权人 | 富士フイルム株式会社 |
| 国家 | 日本 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | 露光ヘッド及び露光装置 |
| 英文摘要 | 【課題】空間光変調素子の変調速度を速くして、高速露光が可能な露光ヘッド及び露光装置を提供する。 【解決手段】露光ヘッドに使用されるDMD50には、主走査方向にマイクロミラーが800個配列されたマイクロミラー列が、副走査方向に600組配列されているが、コントローラにより一部のマイクロミラー列(例えば、800個×100列)だけが駆動されるように制御する。DMD50のデータ処理速度には限界があり、使用する画素数に比例して1ライン当りの変調速度が決定されるので、一部のマイクロミラー列だけを使用することで1ライン当りの変調速度が速くなる。 【選択図】図16 |
| 公开日期 | 2004-01-08 |
| 申请日期 | 2002-05-23 |
| 状态 | 授权 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/60829]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 富士フイルム株式会社 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 石川 弘美,岡崎 洋二,永野 和彦,等. 露光ヘッド及び露光装置. JP2004001244A. 2004-01-08. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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