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半導体レーザ装置およびレーザ反射膜の製造方法

文献类型:专利

作者小原 直樹; 竹原 浩成; 岩井 誉貴; 安川 久忠
发表日期2007-03-29
专利号JP2007080988A
著作权人MATSUSHITA ELECTRIC IND CO LTD
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体レーザ装置およびレーザ反射膜の製造方法
英文摘要【課題】波長350nm〜1200nmの青〜赤外光を出射するレーザ出射部に対して、高反射率かつ高精度な反射膜を同一の半導体基板に実装する。 【解決手段】青系の半導体レーザ素子1aと赤系の半導体レーザ素子1bを有するレーザ出射部1と、レーザ出射部1からのレーザ光を反射するミラー部2とが同一基板5に形成され、さらに、青系の半導体レーザ素子1aと赤系の半導体レーザ素子1bのそれぞれに対して青の波長に対して反射率の高い第1の反射膜M1と赤ないし赤外の波長に対して反射率の高い第2の反射膜M2がミラー部2を区画した複数領域に形成されている。第1の反射膜M1はAl層と誘電体層の多層膜で構成され、第2の反射膜M2はAuまたはPtからなる金属膜で構成されている。これにより、青〜赤外光の広い波長領域のレーザ出射光を効率良く反射することができる。 【選択図】図5
公开日期2007-03-29
申请日期2005-09-13
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/61265]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位MATSUSHITA ELECTRIC IND CO LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
小原 直樹,竹原 浩成,岩井 誉貴,等. 半導体レーザ装置およびレーザ反射膜の製造方法. JP2007080988A. 2007-03-29.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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