マルチビーム光源ユニット、それを備えた光走査装置および画像形成装置
文献类型：专利
| 作者 | 増田 浩二 |
| 发表日期 | 2007-09-06 |
| 专利号 | JP2007225989A |
| 著作权人 | 株式会社リコー |
| 国家 | 日本 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | マルチビーム光源ユニット、それを備えた光走査装置および画像形成装置 |
| 英文摘要 | 【課題】画像形成装置の印字速度の向上、また書込密度の向上を達成する手段の1つとして、1度に複数の光ビームを走査して、同時に複数ラインを走査させる方法がある。1つのパッケージ内に複数の発光点を持つレーザアレイ光源を用いれば実現できるが、非常に高価な光源となっている。シングルビーム光源を用いてマルチビーム光源ユニットを構成するほうがコスト的に有利であるが、複数ビームの合成のため、偏光方向の違いを利用するので、λ/2板を追加することとなり、光学系のサイズが大きくなったりする。 【解決手段】合成すべき2つの半導体レーザからの各ビームを光学素子で整形した後、光ビーム合成素子の異なる位置に入射させて、両ビームを合成させて同一方向に出射させるに当り、合成前に一方の光ビームの偏光方向を90度異ならせるため、ビーム出射点から合成位置までの間にある何れかの光学素子の少なくとも1面にサブ波長構造を付加した。 【選択図】図1 |
| 公开日期 | 2007-09-06 |
| 申请日期 | 2006-02-24 |
| 状态 | 失效 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/61305]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 株式会社リコー |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 増田 浩二. マルチビーム光源ユニット、それを備えた光走査装置および画像形成装置. JP2007225989A. 2007-09-06. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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