光量制御装置、露光装置、画像形成装置および光量制御方法
文献类型：专利
| 作者 | 河本 智浩 |
| 发表日期 | 2007-12-20 |
| 专利号 | JP2007329436A |
| 著作权人 | キヤノン株式会社 |
| 国家 | 日本 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | 光量制御装置、露光装置、画像形成装置および光量制御方法 |
| 英文摘要 | 【課題】複数の発光素子間に電流-光量特性について有意なばらつきが存在する場合であっても、各発光素子についての光量制御の精度を好適にする。 【解決手段】光量制御装置は、例えば、複数の発光素子からそれぞれ光ビームを出力する光ビーム出力装置の光量を制御する装置である。本装置は、各発光素子の光ビームの特性をもとに代表発光素子を決定する決定手段と、決定された代表発光素子から出力される光ビームを受光する受光手段とを備える。とりわけ、本装置は、受光された代表発光素子からの光ビームの光量に基づいて、各発光素子から出力される光ビームの光量を制御する制御手段を含むことを特徴とする。 【選択図】図1 |
| 公开日期 | 2007-12-20 |
| 申请日期 | 2006-06-09 |
| 状态 | 失效 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/61340]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | キヤノン株式会社 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 河本 智浩. 光量制御装置、露光装置、画像形成装置および光量制御方法. JP2007329436A. 2007-12-20. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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