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III族窒化物半導体レーザ素子を作製する方法

文献类型:专利

作者住友 隆道; 高木 慎平
发表日期2015-08-20
专利号JP2015149312A
著作权人住友電気工業株式会社
国家日本
文献子类发明申请
其他题名III族窒化物半導体レーザ素子を作製する方法
英文摘要【課題】III族窒化物半導体レーザ素子のc軸及びm軸に係るc−m面とIII族窒化物半導体レーザ素子の基板主面の法線軸に直交する平面との交差線に直交する基準面と活性層の端面との成す角度がc−m面における角度成分において小さくできる、III族窒化物半導体レーザ素子を作製する方法を提供できる。【解決手段】押圧によりレーザバー5d及び別の基板生産物51を形成する際に、基板生産物5を支持するように基板生産物5を支持台の第1支持面H1及び第2支持面H2上に配置すると共に、第1基準面R1に直交する直交面に対して角度THETAで傾斜した第2基準面R2に沿ってブレード5gが基板生産物5に対して移動可能なようにブレード5g及び基板生産物5を配置する。角度THETAが5度以上10度以下の範囲にあるとき、レーザ共振器を構成する第1端面はc−m面内において規定される角度に関して優れた垂直性を示す。【選択図】図3
公开日期2015-08-20
申请日期2014-02-04
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/61902]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位住友電気工業株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
住友 隆道,高木 慎平. III族窒化物半導体レーザ素子を作製する方法. JP2015149312A. 2015-08-20.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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