ラインビーム光源およびラインビーム照射装置ならびにレーザリフトオフ方法
文献类型：专利
| 作者 | 岸本 克彦 |
| 发表日期 | 2018-12-27 |
| 专利号 | JP2018207115A |
| 著作权人 | 鴻海精密工業股▲ふん▼有限公司 |
| 国家 | 日本 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | ラインビーム光源およびラインビーム照射装置ならびにレーザリフトオフ方法 |
| 英文摘要 | 【課題】レーザリフトオフ法に使用され得る新規なラインビーム光源を提供する。 【解決手段】 ラインビーム照射装置(1000)は、ワークステージ(200)と、ワークステージ(200)上に置かれたワーク(300)をラインビームで照射するラインビーム光源(100)と、ワーク上におけるラインビームの照射位置をラインビームに交差する方向に移動させるようにワークステージ(200)およびラインビーム光源(100)の少なくとも一方を移動させる搬送装置(250)とを備える。ラインビーム光源は、複数の半導体レーザ素子と、複数の半導体レーザ素子を支持する支持体とを有する。複数の半導体レーザ素子は、速軸方向に延びる同一ラインに沿って配列されており、半導体レーザ素子のそれぞれの発光領域から出射されたレーザ光は、同一ラインに平行に拡がってラインビームを形成する。 【選択図】図10 |
| 公开日期 | 2018-12-27 |
| 申请日期 | 2018-07-31 |
| 状态 | 授权 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/62382]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 鴻海精密工業股▲ふん▼有限公司 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 岸本 克彦. ラインビーム光源およびラインビーム照射装置ならびにレーザリフトオフ方法. JP2018207115A. 2018-12-27. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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