制造III族氮化物半导体激光器件的方法
文献类型:专利
作者 | 高木慎平 |
发表日期 | 2014-05-28 |
专利号 | CN103828148A |
著作权人 | 住友电气工业株式会社 |
国家 | 中国 |
文献子类 | 发明申请 |
其他题名 | 制造III族氮化物半导体激光器件的方法 |
英文摘要 | 一种制造具有半极性面的III族氮化物半导体激光器件的方法,其可以稳定地提供能降低激光阈值电流的激光谐振腔反射镜。在刀片(5g)的行进方向(PR)与支撑板(H)的正面(Ha)正交的状态下,支撑板(H)在c-m面上从m轴朝向由行进方向(PR)和a轴定义的参考面(Ab)以角度(THETA)倾斜,并且此外,定位刀片(5g),使得与包括了在多个刻划标记(5b)之中的最末端刻划标记(5b1)和衬底产品(5)的正面(5a)之间的交叉部(P1)并沿方向(PR)延伸的面重叠。在角度(ALPHA)的定义范围是从71至79度或从101至109度的情况下,角度(THETA)的范围为从11至19度,并且因此沿行进方向(PR)延伸的参考面(Ab)沿与c轴正交的c面延伸。 |
公开日期 | 2014-05-28 |
申请日期 | 2012-07-23 |
状态 | 失效 |
源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/63523] ![]() |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | 住友电气工业株式会社 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 高木慎平. 制造III族氮化物半导体激光器件的方法. CN103828148A. 2014-05-28. |
入库方式: OAI收割
来源:西安光学精密机械研究所
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