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半導体光デバイスの製造方法

文献类型:专利

作者堀川 英明; 中村 幸治; 山内 義則; 大柴 小枝子
发表日期1998-08-07
专利号JP1998209568A
著作权人OKI ELECTRIC IND CO LTD
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体光デバイスの製造方法
英文摘要【課題】 メサストライプの両側に電流ブロック層(Fe-InP層)が接する構成では、Fe-InP層がホールの注入に対して高抵抗にならないためにリーク電流が多く流れて、半導体レーザ発振器の発振しきい値の増加、発振効率が悪化を来す。 【解決手段】 n-InP基板11上にn-InPクラッド層12、InGaAsP活性層13等を形成し、続いてInGaAsP活性層13上にFe-InP層14を形成する。次いでFe-InP層14を加工してFe-InP層14を底部に残した状態に溝17を形成した後、溝17の幅方向の底部ほぼ中央部におけるFe-InP層14上にp-InPクラッド層20をこの溝17の奥行き方向に形成し、さらにその上にp-InGaAsコンタクト層21を形成する。
公开日期1998-08-07
申请日期1997-01-28
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/63960]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位OKI ELECTRIC IND CO LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
堀川 英明,中村 幸治,山内 義則,等. 半導体光デバイスの製造方法. JP1998209568A. 1998-08-07.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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