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半導体結晶のエッチング方法

文献类型:专利

作者菊 地 理 恵; 井 戸 田 健
发表日期1993-07-23
专利号JP1993182947A
著作权人MATSUSHITA ELECTRIC IND CO LTD
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体結晶のエッチング方法
英文摘要【目的】 AlGaInP半導体結晶におけるAlGaInPとGaInPの選択性が高く、制御が容易で再現性が良く、短時間に高精度にエッチングが行なえること。 【構成】 AlGaInPクラッド層をエッチングする際は、硫酸エッチング液の温度を29°C以上に設定し、この層のエッチングが終了した時点で硫酸エッチング液の温度を28°C以下に下げ、下層のGaInPエッチング阻止層のエッチングを防止する。硫酸エッチング液の温度が28°C以下では、AlGaInPに対するGaInPの比すなわち選択比は無限大になり、AlGaInPはエッチングされるものの、GaInPはエッチングされない。したがって、初めから硫酸エッチング液の温度を28°C以下に設定してエッチングを行なってもよい。
公开日期1993-07-23
申请日期1991-12-27
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/64123]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位MATSUSHITA ELECTRIC IND CO LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
菊 地 理 恵,井 戸 田 健. 半導体結晶のエッチング方法. JP1993182947A. 1993-07-23.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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