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窒化物系半導体素子

文献类型:专利

作者神川 剛; 川口 佳伸
发表日期2008-06-26
专利号JP2008147363A
著作权人シャープ株式会社
国家日本
文献子类发明申请
其他题名窒化物系半導体素子
英文摘要【課題】信頼性を向上させることが可能な窒化物系半導体素子を提供する。 【解決手段】この窒化物系半導体素子(半導体レーザ素子)は、少なくとも窒化物系半導体各層12〜18を含む半導体レーザ素子部1と、その半導体レーザ素子部1の共振器端面1a(1b)上に形成され、結晶化されたアルミニウムの酸窒化物からなるコーティング膜2(4)とを備えている。そして、コーティング膜2(4)には、シリコンが添加されている。 【選択図】図1
公开日期2008-06-26
申请日期2006-12-08
状态授权
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/64205]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位シャープ株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
神川 剛,川口 佳伸. 窒化物系半導体素子. JP2008147363A. 2008-06-26.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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