回折格子の製造方法及びそれを用いて製造した半導体レーザ
文献类型：专利
| 作者 | 宮▲崎▼ 勝; 篠田 和典; 青木 雅博; 石川 清司 |
| 发表日期 | 1998-12-18 |
| 专利号 | JP1998335743A |
| 著作权人 | 株式会社日立製作所 |
| 国家 | 日本 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | 回折格子の製造方法及びそれを用いて製造した半導体レーザ |
| 英文摘要 | 【課題】特に量産性·再現性に優れた位相シフト型回折格子の製造方法を提供する。 【解決手段】半導体結晶表面にパターン反転に利用する材料を成膜し、光の干渉露光法を用いた周期的なホトレジストパターンをマスクに上記材料パターンを加工する。上記材料パターンの所定の領域に結晶の回折格子を形成し、のち樹脂を埋込み、エッチバックにより樹脂層からなる反転パターンを残りの領域に形成し、これによって別の回折格子を結晶に形成する。 |
| 公开日期 | 1998-12-18 |
| 申请日期 | 1997-05-27 |
| 状态 | 失效 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/64367]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 株式会社日立製作所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 宮▲崎▼ 勝,篠田 和典,青木 雅博,等. 回折格子の製造方法及びそれを用いて製造した半導体レーザ. JP1998335743A. 1998-12-18. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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