回折格子の製造方法及びそれを用いて製造した半導体レーザ及びそれを用いた光応用システム
文献类型：专利
| 作者 | 宮▲崎▼ 勝; 青木 雅博; 篠田 和典; 古森 正明 |
| 发表日期 | 1999-02-02 |
| 专利号 | JP1999031863A |
| 著作权人 | HITACHI LTD |
| 国家 | 日本 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | 回折格子の製造方法及びそれを用いて製造した半導体レーザ及びそれを用いた光応用システム |
| 英文摘要 | 【課題】任意の膜厚分布を持った高出力素子用回折格子を量産性·再現性よく製造する。 【解決手段】半導体結晶表面に選択成長のマスク材料からなる選択成長マスク層を成膜し、これをドライエッチにより周期的なパターンに形成した後、任意の場所に対して任意の高さの加工を施し、この選択成長マスク層の表面に結晶成長で回折格子層を形成することによって、任意の膜厚分布を持った回折格子を製造する。 |
| 公开日期 | 1999-02-02 |
| 申请日期 | 1997-07-11 |
| 状态 | 失效 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/64711]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | HITACHI LTD |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 宮▲崎▼ 勝,青木 雅博,篠田 和典,等. 回折格子の製造方法及びそれを用いて製造した半導体レーザ及びそれを用いた光応用システム. JP1999031863A. 1999-02-02. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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