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ポリマー光導波路、及びその製造方法

文献类型:专利

作者井戸 立身; 小泉 真里; 山岸 智明; 木村 隆男
发表日期2006-05-11
专利号JP2006119659A
著作权人HITACHI LTD
国家日本
文献子类发明申请
其他题名ポリマー光導波路、及びその製造方法
英文摘要【課題】損失の偏波依存性が小さく作製が容易なポリマー光導波路を提供する。 【解決手段】基板上に下部クラッド層(屈折率n1)、コア層(屈折率n2)を順次塗布し、コア層の不要部を除去した後、再度第1の上部クラッド層(屈折率n3)、第2の上部クラッド層(屈折率n4)を順次塗布してポリマー光導波路を作製する。各層の屈折率は、n2>n3>n1,n4と設定する。 【選択図】図1
公开日期2006-05-11
申请日期2005-12-05
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/64798]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位HITACHI LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
井戸 立身,小泉 真里,山岸 智明,等. ポリマー光導波路、及びその製造方法. JP2006119659A. 2006-05-11.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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