光導波装置及びその製造方法、並びに光情報処理装置
文献类型：专利
| 作者 | 大谷 栄二; 佐藤 修三; 堀越 浩; 大鳥居 英; 上野 俊英 |
| 发表日期 | 2006-02-23 |
| 专利号 | JP2006053471A |
| 著作权人 | SONY CORP |
| 国家 | 日本 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | 光導波装置及びその製造方法、並びに光情報処理装置 |
| 英文摘要 | 【課題】 光結合のロスが少ない光導波装置及びその製造方法、並びに光情報処理装置を提供すること。 【解決手段】 第1の半導体層2と、絶縁層3と、第2の半導体層4とがこの順に積層され、第1の半導体層2に光導波層5が形成されている光導波装置1において、光導波層5の少なくとも厚みが、光入射側端部6で光出射側端部7よりも大きいことを特徴とする、光導波装置1。本発明の光導波装置1と、この光導波装置1の光導波層5に光を入射させる光入射手段9と、光導波層5からの出射光を受け入れる受光手段10とを有する、光情報処理装置8。第1の半導体層2にゲルマニウム等の不純物元素を導入する工程を経て、少なくとも厚みが光入射側端部6で光出射側端部7よりも大きい光導波層5を形成することを特徴とする、光導波装置1の製造方法。 【選択図】図1 |
| 公开日期 | 2006-02-23 |
| 申请日期 | 2004-08-16 |
| 状态 | 失效 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/64803]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | SONY CORP |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 大谷 栄二,佐藤 修三,堀越 浩,等. 光導波装置及びその製造方法、並びに光情報処理装置. JP2006053471A. 2006-02-23. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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