III族氮化物半导体激光元件
文献类型:专利
作者 | 住友隆道; 上野昌纪; 善积祐介; 吉田乔久; 足立真宽 |
发表日期 | 2014-03-05 |
专利号 | CN103620895A |
著作权人 | 住友电气工业株式会社 |
国家 | 中国 |
文献子类 | 发明申请 |
其他题名 | III族氮化物半导体激光元件 |
英文摘要 | 在具有在包含开口的电流限制层上再生长有p型包覆层的结构的III族氮化物半导体激光元件中,减小由存在于半极性的再生长界面的n型杂质引起的影响。半导体激光元件(10)具有n型半导体区域(14)、活性层(16)、第一p型半导体区域(18)、电流限制层(20)以及第二p型半导体区域(22)。第二p型半导体区域(22)是在形成电流限制层(20)的开口(20a)之后再生长在第一p型半导体区域(18)上和电流限制层(20)上的区域。第一p型半导体区域(18)中的与第二p型半导体区域(22)的界面包含III族氮化物半导体的半极性面。第一p型半导体区域(18)具有构成第一p型半导体区域(18)与第二p型半导体区域(22)之间的界面且具有1×1020cm-3以上的p型杂质浓度的高浓度p型半导体层(18c)。 |
公开日期 | 2014-03-05 |
申请日期 | 2012-07-18 |
状态 | 失效 |
源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/65262] ![]() |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | 住友电气工业株式会社 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 住友隆道,上野昌纪,善积祐介,等. III族氮化物半导体激光元件. CN103620895A. 2014-03-05. |
入库方式: OAI收割
来源:西安光学精密机械研究所
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