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用于制造光电子半导体构件的方法和光电子半导体激光器

文献类型:专利

作者克里斯托夫·艾克勒; 森克·陶茨
发表日期2014-07-09
专利号CN103918142A
著作权人欧司朗光电半导体有限公司
国家中国
文献子类发明申请
其他题名用于制造光电子半导体构件的方法和光电子半导体激光器
英文摘要一种用于制造光电子半导体构件(1)的方法,其具有下述步骤:在生长衬底(3)上外延地生长具有有源层的半导体层序列(2);在半导体层序列(2)和生长衬底(3)上成形正面小平面(4);借助用于在制成的半导体构件(1)中产生的辐射(R)的阻光层(5)对正面小平面(4)的一部分进行覆层,其中阻光层(5)借助定向的覆层方法来生成并且在覆层时借助于通过生长衬底(3)和/或通过至少一个遮光条(6)的遮蔽来进行对阻光层(5)的结构化,所述遮光条设置在生长衬底(3)上和/或附近。
公开日期2014-07-09
申请日期2012-09-19
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/65568]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位欧司朗光电半导体有限公司
推荐引用方式
GB/T 7714
克里斯托夫·艾克勒,森克·陶茨. 用于制造光电子半导体构件的方法和光电子半导体激光器. CN103918142A. 2014-07-09.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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