Metod och apparat för styrd oxidation av material
文献类型：专利
| 作者 | NICOLAE CHITICA; FREDRIK SALOMONSSON; ANITA RISBERG |
| 发表日期 | 2000-10-24 |
| 专利号 | SE0003837D0 |
| 著作权人 | ZARLINK SEMICONDUCTOR AB |
| 国家 | 瑞典 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | Metod och apparat för styrd oxidation av material |
| 英文摘要 | A method of oxidising a layer of a semi conductor device comprises placing the device 14 in a furnace 10 and supplying a carrier gas such as nitrogen containing an oxidising vapour such as water vapour to the furnace. The device may be a VCSEL having an AlGaAs layer which is to be oxidised to form an optical aperture. The partial pressure of the water vapour is controlled by controlling the temperature of a water bath 18. |
| 公开日期 | 2000-10-24 |
| 申请日期 | 2000-10-24 |
| 状态 | 失效 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/65715]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | ZARLINK SEMICONDUCTOR AB |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | NICOLAE CHITICA,FREDRIK SALOMONSSON,ANITA RISBERG. Metod och apparat för styrd oxidation av material. SE0003837D0. 2000-10-24. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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