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面型光半導体素子及びその製造方法

文献类型:专利

作者黒田 文彦
发表日期1998-04-14
专利号JP1998098236A
著作权人株式会社東芝
国家日本
文献子类发明申请
其他题名面型光半導体素子及びその製造方法
英文摘要【課題】発熱が小さく特性の優れた面発光半導体装置を提供する。 【解決手段】n型GaAs基板1上にn型GaAsバッファ層2,n型DBR層3,n型クラッド層4が積層されている。n型クラッド層4上にi型GaAs活性層5を介してp型クラッド層6が形成されている。p型クラッド層6上にp型DBR層7が形成されている。そして、上記構造は、レーザが放射される円柱状の活性領域8と、表面から水素イオンが選択的に注入され、活性層5付近の絶縁化をはかった高抵抗化領域9とからなる。そして、高抵抗化領域8の表面に陽極電極10が形成され、n型GaAs基板1下面に陰極電極11が形成されている。
公开日期1998-04-14
申请日期1996-09-20
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/65983]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位株式会社東芝
推荐引用方式
GB/T 7714
黒田 文彦. 面型光半導体素子及びその製造方法. JP1998098236A. 1998-04-14.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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