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半導体光導波路およびその製造方法

文献类型:专利

作者▲浜▼本 貴一
发表日期1995-07-14
专利号JP1995174931A
著作权人日本電気株式会社
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体光導波路およびその製造方法
英文摘要【構成】 InP基板1上にInGaAspガイド層2、InP第1クラッド層3、InP埋め込み兼クラッド層4を形成し、ガイド層2の幅及び高さが導波方向でテーパー形状であり、かつ、埋め込み兼クラッド層4の幅が導波方向でテーパー形状であり、一方の端面では埋め込み構造、他方の端面ではリッジ構造である。 【効果】 リッジ構造半導体光デバイスと光ファイバーまた埋め込み構造半導体光デバイスとの結合効率を改善する。また、選択成長技術を用いてガイド層·クラッド層を形成しており、エッチング工程を含まないため、プラズマダメージや側壁荒れによる散乱損失を抑制することができ、また、MO-CVD選択成長技術によってガイド層を作製しているため、所望のテーパー形状の幅·高さを再現性良く実現でき、歩留まりが良く、集積に適している。
公开日期1995-07-14
申请日期1993-12-20
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/66002]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位日本電気株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
▲浜▼本 貴一. 半導体光導波路およびその製造方法. JP1995174931A. 1995-07-14.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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