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半導体レーザ埋め込み構造

文献类型:专利

作者岩田 普
发表日期1995-08-04
专利号JP1995202312A
著作权人日本電気株式会社
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体レーザ埋め込み構造
英文摘要【目的】 タイプ2である半導体材料を用いた半導体レーザの埋め込み構造を提供する。 【構成】 電子が多数キャリアーであるn領域11に隣接して第1埋め込み層7および第2埋め込み層8を形成した。光ガイド層5、n型クラッド層6、第1埋め込み層7、第2埋め込み層8のバンドラインナップはタイプ2である。第1埋め込み層7は、n型クラッド層6と光ガイド層5に比べ、伝導帯端の位置が高いため電子を有効に閉じ込める。第2埋め込み層8の屈折率がn型クラッド層6よりも2%小さく、n領域11を平均した有効屈折率よりも小さいため光を閉じ込めることができる。
公开日期1995-08-04
申请日期1993-12-28
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/66098]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位日本電気株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
岩田 普. 半導体レーザ埋め込み構造. JP1995202312A. 1995-08-04.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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