光導波路及び光導波路の製造方法
文献类型：专利
| 作者 | 井戸 立身; 長良 高光; 木村 忠広; 高橋 亨 |
| 发表日期 | 2006-02-23 |
| 专利号 | JP2006053579A |
| 著作权人 | 株式会社日立製作所 |
| 国家 | 日本 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | 光導波路及び光導波路の製造方法 |
| 英文摘要 | 【課題】 半導体素子搭載部を有するポリマ導波路基板の量産性の優れた製造方法を提供する。 【解決手段】 ポリマ導波路と基板の密着性を向上するための接着層を導波路部のみに設けた後に、基板全面にポリマ導波路を作製する。搭載部と導波路部の境界のポリマ層を切断し、搭載部の不要なポリマを剥離·除去して除去する。 【選択図】図1 |
| 公开日期 | 2006-02-23 |
| 申请日期 | 2005-09-26 |
| 状态 | 失效 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/66146]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 株式会社日立製作所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 井戸 立身,長良 高光,木村 忠広,等. 光導波路及び光導波路の製造方法. JP2006053579A. 2006-02-23. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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