位相シフト型回折格子の製造方法
文献类型：专利
| 作者 | 田遠 伸好; 小林 秀俊 |
| 发表日期 | 1993-12-24 |
| 专利号 | JP1993343806A |
| 著作权人 | SUMITOMO ELECTRIC IND LTD |
| 国家 | 日本 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | 位相シフト型回折格子の製造方法 |
| 英文摘要 | (修正有) 【目的】 煩雑な位相シフト型回折格子の製造方法を簡略化し、かつ、回折格子を精度良く形成できる製造方法を提供する。 【構成】 半導体基板1上にホトレジスト2を塗布(a)。その上に、周期的に厚い部分と薄い部分とが交互に形成されて凸部と凹部とを成す誘電体膜3を貼り付ける(b)。入射角の異なる2つの同一波長のレーザ光を表面に照射して干渉縞の光の強弱を利用してホトレジスト2を周期状に露光(c)。誘電体膜3を取り外した後、このホトレジスト2を現像すると、周期状ホトレジスト21が形成されている(d)。周期状ホトレジスト21をマスクとして半導体基板1をエッチングした後、周期状ホトレジストを除去して回折格子11を形成する(e)。ここで、凸部におけるホトレジスト2表面上の干渉縞の周期の位相と、凹部におけるホトレジスト2表面上の干渉縞の周期の位相とが周期の1/2ずれるように決定されている。 |
| 公开日期 | 1993-12-24 |
| 申请日期 | 1992-06-05 |
| 状态 | 失效 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/66147]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | SUMITOMO ELECTRIC IND LTD |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 田遠 伸好,小林 秀俊. 位相シフト型回折格子の製造方法. JP1993343806A. 1993-12-24. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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