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用于改良在非极性或半极性(Ga,Al,In,B)N衬底上生长的(Ga,Al,In,B)N激光二极管的镜面刻面劈裂产率的结构

文献类型:专利

作者罗伯特·M·法雷尔; 马修·T·哈迪; 太田裕朗; 斯蒂芬·P·登巴尔斯; 詹姆斯·S·斯佩克; 中村修二
发表日期2012-05-23
专利号CN102473799A
著作权人加利福尼亚大学董事会
国家中国
文献子类发明申请
其他题名用于改良在非极性或半极性(Ga,Al,In,B)N衬底上生长的(Ga,Al,In,B)N激光二极管的镜面刻面劈裂产率的结构
英文摘要一种用于改良在非极性或半极性(Ga,Al,In,B)N衬底上生长的(Ga,Al,In,B)N激光二极管的镜面刻面劈裂产率的结构。所述结构包含非极性或半极性(Ga,Al,In,B)N激光二极管,所述激光二极管包括波导核心,其在不存在p型掺杂的含铝波导覆盖层的情况下为所述装置的操作提供足够光限制;以及一个或多个n型掺杂的含铝层,其可用于帮助沿特定晶面的刻面劈裂。
公开日期2012-05-23
申请日期2010-07-09
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/66691]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位加利福尼亚大学董事会
推荐引用方式
GB/T 7714
罗伯特·M·法雷尔,马修·T·哈迪,太田裕朗,等. 用于改良在非极性或半极性(Ga,Al,In,B)N衬底上生长的(Ga,Al,In,B)N激光二极管的镜面刻面劈裂产率的结构. CN102473799A. 2012-05-23.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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