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用于制造半导体激光器器件的方法及半导体激光器器件

文献类型:专利

作者滨口达史; 高木慎平
发表日期2014-07-30
专利号CN103959579A
著作权人索尼公司
国家中国
文献子类发明申请
其他题名用于制造半导体激光器器件的方法及半导体激光器器件
英文摘要根据用于制造半导体激光器元件(100)的这个方法,切割导向槽(104)形成在生产基板(110)的表面上,其中,在具有半极性平面(1a)的六方晶系Ⅲ族氮化物半导体基板(1)上形成包括发光层(14)的外延层(2)。沿着位于共振器端面侧(102,103)的半导体激光器器件(100)的划线(BL1)延伸并且具有V型横截面的切割导向槽(104)形成在位于划线(BL1)上并且包括半导体激光器器件(100)的至少一个拐角的局部区域中。沿着划线(BL1)切割具有形成在其上的切割导向槽(104)的生产基板(110)。
公开日期2014-07-30
申请日期2012-11-30
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/66937]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位索尼公司
推荐引用方式
GB/T 7714
滨口达史,高木慎平. 用于制造半导体激光器器件的方法及半导体激光器器件. CN103959579A. 2014-07-30.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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