エレクトロルミネッセンスの観察方法
文献类型：专利
| 作者 | 佐々木 孝一; 鶴見 大輔 |
| 发表日期 | 2014-05-22 |
| 专利号 | JP2014096444A |
| 著作权人 | SUMITOMO ELECTRIC IND LTD |
| 国家 | 日本 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | エレクトロルミネッセンスの観察方法 |
| 英文摘要 | 【課題】半導体発光デバイスの劣化を防止することにより、本来の故障個所を確認することができる観察方法を提供する。 【解決手段】半導体基板4、エピタキシャル半導体層6、第1電極7、及び第2電極8を含む半導体発光デバイス3と、第2電極8の上に固定されたヒートシンク2と、を有する半導体発光装置1を準備する工程S1と、ヒートシンク2、第2電極8、及び半導体基板4を部分的に研磨して、ヒートシンク2の第1研磨面27a、第2電極8の第2研磨面27b、及び半導体基板4の第3研磨面27cを含む観察面27を形成する工程S4と、観察面27を形成した後に、第1電極7と第2電極8との間の印加電流に応答するエレクトロルミネッセンスを観察面27から観察する工程S6と、を備える。 【選択図】図4 |
| 公开日期 | 2014-05-22 |
| 申请日期 | 2012-11-08 |
| 状态 | 失效 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/67380]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | SUMITOMO ELECTRIC IND LTD |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 佐々木 孝一,鶴見 大輔. エレクトロルミネッセンスの観察方法. JP2014096444A. 2014-05-22. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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