半導体素子及びその製造方法、並びに半導体素子製作用マスク
文献类型：专利
| 作者 | 高橋 敏幸; 柳ケ瀬 雅司; 今本 浩史 |
| 发表日期 | 1996-02-27 |
| 专利号 | JP1996056017A |
| 著作权人 | OMRON CORP |
| 国家 | 日本 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | 半導体素子及びその製造方法、並びに半導体素子製作用マスク |
| 英文摘要 | 【構成】 (100)面方位の基板21の上に形成され、[010]方向及び[001]方向にアイソレート溝33を形成され、さらにアイソレート溝33でカットされた半導体チップ35において、p側電極29の角部を三角形状に面取りする。 【目的】 アイソレートエッチング時に半導体チップの角部が削れることにより、p側電極が垂れて素子を短絡させるのを防止する。 |
| 公开日期 | 1996-02-27 |
| 申请日期 | 1994-08-09 |
| 状态 | 失效 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/67408]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | OMRON CORP |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 高橋 敏幸,柳ケ瀬 雅司,今本 浩史. 半導体素子及びその製造方法、並びに半導体素子製作用マスク. JP1996056017A. 1996-02-27. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。