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Manufacturing method of a semiconductor emission device

文献类型:专利

作者ITOU KUNIO; INOUE MORIO; ASAHI KUNIHIKO
发表日期1976-11-24
专利号JP1976135482A
著作权人MATSUSHITA ELECTRIC IND CO LTD
国家日本
文献子类发明申请
其他题名Manufacturing method of a semiconductor emission device
英文摘要PURPOSE:An embeded hetero structure emission device which is made to easy to manufacture by coating the side of mesa stripe with a compound mixed crystal semiconductor formed by a thermal decomposition method.
公开日期1976-11-24
申请日期1975-05-20
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/67691]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位MATSUSHITA ELECTRIC IND CO LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
ITOU KUNIO,INOUE MORIO,ASAHI KUNIHIKO. Manufacturing method of a semiconductor emission device. JP1976135482A. 1976-11-24.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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