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利得結合型DFBレーザおよびその製造方法

文献类型:专利

作者柿本 昇一
发表日期1994-06-10
专利号JP1994164051A
著作权人MITSUBISHI ELECTRIC CORP
国家日本
文献子类发明申请
其他题名利得結合型DFBレーザおよびその製造方法
英文摘要【目的】 製造時に特性を決定するのに必要なパラメータを減らして特性の揃った単一モード発振利得結合型DFBレーザを高い歩留で製造可能にする。 【構成】 基板上に形成された活性層上にn型クラッド層を形成し、該n型クラッド層上に吸収損失係数が比較的大きく且つ上記活性層が放出する光のエネルギーと同一またはそれ以下のバンドギャップ·エネルギーをもったp型InGaAsP層からなる第1の吸収領域を一定の間隔を保って形成し、該第1の吸収領域を吸収損失係数が比較的小さく且つ上記p型InGaAsP層と同一組成をもったn型InGaAsP層からなる第2の吸収領域で埋込むことにより、上記n型クラッド層上に上記第1の吸収領域と第2の吸収領域を周期的に配置したことを特徴とする。
公开日期1994-06-10
申请日期1992-11-19
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/67757]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位MITSUBISHI ELECTRIC CORP
推荐引用方式
GB/T 7714
柿本 昇一. 利得結合型DFBレーザおよびその製造方法. JP1994164051A. 1994-06-10.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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