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シャドウマスクと導波路型半導体光素子及びその製造方法

文献类型:专利

作者青木 雅博; 鈴木 誠; 古森 正明; 佐藤 宏
发表日期1997-06-30
专利号JP1997171113A
著作权人日本オプネクスト株式会社
国家日本
文献子类发明申请
其他题名シャドウマスクと導波路型半導体光素子及びその製造方法
英文摘要【課題】光学的結晶性を低下させずに化合物半導体薄膜結晶の膜厚を同一基板面内で変化させ、テーパ状の膜厚分布を得る。このテーパ状膜厚分布をコア層に用いた導波路型半導体光素子を得る。 【解決手段】気相成長装置の反応室内で、基板保持具11を介して所定の空間距離dを保持して基板21上にシャドウマスク1を配置した後、コア層とクラッド層を含む半導体薄膜結晶を成長する。ここで、シャドウマスク1の表面は誘電体キャップ層6で覆われている。導波路型半導体光素子では、コア層厚および導波路幅をもテーパ化する。 【効果】結晶成長時に半導体薄膜の膜厚を同一基板面内で変調でき、且つ、高品質な光学的結晶性を有する半導体膜が得られる。これにより、ファイバと高効率光結合を可能とするビームスポット拡大半導体レーザを容易に実現できる。
公开日期1997-06-30
申请日期1996-03-22
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/67859]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位日本オプネクスト株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
青木 雅博,鈴木 誠,古森 正明,等. シャドウマスクと導波路型半導体光素子及びその製造方法. JP1997171113A. 1997-06-30.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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