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リッジ型半導体レーザ素子及びその製造方法

文献类型:专利

作者大櫃 義徳; 橋本 隆宏; 辻井 宏行; 喜根井 聡文; 大島 昇; 太田 将之; 兼岩 進治
发表日期2006-03-30
专利号JP2006086218A
著作权人シャープ株式会社
国家日本
文献子类发明申请
其他题名リッジ型半導体レーザ素子及びその製造方法
英文摘要【課題】水平横モードのファー·フィールド·パターンにピーク部分以外の激しい凹凸がなく、従って、安定なAPC駆動が可能で、しかも、製造コストの増大を抑制可能なリッジ型半導体レーザ素子及びその製造方法を提供する。 【解決手段】少なくともN型クラッド層103、活性層104、P型クラッド層105、及び、リッジ部107が積層されて形成されると共に、該リッジ部107の側面及びP型クラッド層105の上面が、絶縁膜108で覆われたリッジ型半導体レーザ素子100を、上記絶縁膜108として、屈折率が上記P型クラッド層105の屈折率より小さく、且つ、該屈折率と、上記P型クラッド層105の屈折率との差が1以内である絶縁膜を用いて構成する。 【選択図】図1
公开日期2006-03-30
申请日期2004-09-14
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/67886]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位シャープ株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
大櫃 義徳,橋本 隆宏,辻井 宏行,等. リッジ型半導体レーザ素子及びその製造方法. JP2006086218A. 2006-03-30.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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