中国科学院机构知识库网格
Chinese Academy of Sciences Institutional Repositories Grid
半導体装置及び半導体装置の製造方法

文献类型:专利

作者松本 武; 関口 茂昭
发表日期2018-08-23
专利号JP2018133425A
著作权人富士通株式会社
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体装置及び半導体装置の製造方法
英文摘要【課題】強固な半田接合と良好な放熱性との両立を図ること。 【解決手段】基板10上に半導体素子20がフリップチップ実装された半導体装置100であって、基板10の半導体素子20側の面上に直接設けられた金属膜12と、基板10の半導体素子20側の面上に設けられ、基板10よりも熱伝導率が低い誘電体膜14と、誘電体膜14上に設けられた金属膜16と、半導体素子20の動作に伴って発熱する半導体素子20の発熱領域22における半導体素子20の基板10側の面上に設けられ、金属膜12に接触又は接合された金属膜26と、半導体素子20の発熱領域22以外の領域24における半導体素子20の基板10側の面上に設けられ、金属膜16に半田接合された金属膜28と、を備える半導体装置。 【選択図】図1
公开日期2018-08-23
申请日期2017-02-15
状态申请中
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/67984]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位富士通株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
松本 武,関口 茂昭. 半導体装置及び半導体装置の製造方法. JP2018133425A. 2018-08-23.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

浏览0
下载0
收藏0
其他版本

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。