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レーザ走査光学装置

文献类型:专利

作者鹿子嶋 一晴; 木下 博喜; 芝田 悦子
发表日期2009-11-12
专利号JP2009265160A
著作权人KONICA MINOLTA BUSINESS TECHNOLOGIES INC
国家日本
文献子类发明申请
其他题名レーザ走査光学装置
英文摘要【課題】ビーム合成素子として使用されるミラーブロックの各反射面への誤差の累積を緩和できるようにしたレーザ走査光学装置を得る。 【解決手段】画像データに基づいて変調されたレーザビームLで像担持体上を走査するレーザ走査光学装置。最上段のレーザダイオード11Yから発せられたビームLyはシリンダレンズ15に入射する。上から2段目のレーザダイオード11Mから発せられたビームLmは反射面14Mで反射され、3段目のレーザダイオード11Cから発せられたビームLcは反射面14Cで反射され、最下段のレーザダイオード11Kから発せられたビームLkは反射面14Kで反射され、それぞれシリンダレンズ15に入射する。反射面14M,14C,14Kを有するミラーブロック14は副走査方向Zの中央部に配置された反射面14Cが突起37,38に当接することで位置決めされている。 【選択図】図2
公开日期2009-11-12
申请日期2008-04-22
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/68219]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位KONICA MINOLTA BUSINESS TECHNOLOGIES INC
推荐引用方式
GB/T 7714
鹿子嶋 一晴,木下 博喜,芝田 悦子. レーザ走査光学装置. JP2009265160A. 2009-11-12.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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