高周波重畳方法およびこれを用いた光ディスク装置
文献类型：专利
| 作者 | 浅田 昭広; 榑林 正明 |
| 发表日期 | 2008-11-06 |
| 专利号 | JP2008269788A |
| 著作权人 | 株式会社日立製作所 |
| 国家 | 日本 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | 高周波重畳方法およびこれを用いた光ディスク装置 |
| 英文摘要 | 【課題】データ記録中に、スペース形成期間あるいはスペースとマーク形成期間において 高周波成分を半導体レーザ駆動電流に重畳して半導体レーザのノイズを低減する場合、高 周波重畳の制御回路遅延等により高周波成分がマーク形成開始タイミングおよびマーク形 成終了タイミングに重なったり、直前まで重畳するとディスク上に形成されたマークの始 端および終端エッジが高周波成分信号と記録クロックの非同期性により変動する。 【解決手段】マーク形成用半導体レーザ駆動電流の開始タイミングおよび終了タイミング に対して所定時間先行して高周波成分の重畳を停止し、さらに所定時間後に高周波成分の 重畳を開始する高周波重畳制御手段を設けた。これにより高周波成分の重畳によるマーク 始端および終端のディスク上の変動を避けることができる。この結果高速記録におけるジ ッッタ劣化を防止することが可能となる。 【選択図】図1 |
| 公开日期 | 2008-11-06 |
| 申请日期 | 2008-08-11 |
| 状态 | 失效 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/68238]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 株式会社日立製作所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 浅田 昭広,榑林 正明. 高周波重畳方法およびこれを用いた光ディスク装置. JP2008269788A. 2008-11-06. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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