マルチビーム光源装置
文献类型：专利
| 作者 | 中島 智宏 |
| 发表日期 | 2010-01-07 |
| 专利号 | JP2010002922A |
| 著作权人 | 株式会社リコー |
| 国家 | 日本 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | マルチビーム光源装置 |
| 英文摘要 | 【課題】簡単な構成で経時的安定性に優れるマルビーム光源装置を実現すると共に、ビームスポットの間隔調整が容易に行えるようにすることを課題とする。 【解決手段】本発明のマルチビーム光源装置は、複数の半導体レーザ101,102と、該半導体レーザと対で設けられ各々の光ビームを平行光束にする複数のコリメートレンズ104,105と、複数の半導体レーザとコリメートレンズとを主走査方向に配列してこれらを一体的に支持する支持部材103とを有する光源部を備え、上記半導体レーザ間隔Dとコリメートレンズ間隔dとにD/d>1なる関係があると共に、上記光源部を射出軸aを回転軸とした回転方向に位置決め可能に支持してなる構成とした。これにより、汎用の半導体レーザの組み合わせによっても環境変化に対してその相対位置が維持され、安定した光軸精度を保つことが可能な上、副走査方向のピッチが調節可能となる。 【選択図】図2 |
| 公开日期 | 2010-01-07 |
| 申请日期 | 2009-09-28 |
| 状态 | 失效 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/68284]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 株式会社リコー |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 中島 智宏. マルチビーム光源装置. JP2010002922A. 2010-01-07. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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