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光走査装置及び画像形成装置

文献类型:专利

作者添田 真弘; 大杉 友哉; 小嶋 晃
发表日期2013-10-04
专利号JP5375923B2
著作权人株式会社リコー
国家日本
文献子类授权发明
其他题名光走査装置及び画像形成装置
英文摘要【課題】構成部材の製造公差等の影響をなくすことができる光走査装置及び画像形成装置を提供する。 【解決手段】半導体レーザ光源2と、この半導体レーザ光源2から発せられた光を感光体6に結像する結像素子5と、結像素子5を収容する光学箱1とを備える。また、結像素子5を中間部材7を介して光学箱1に固定し、中間部材7は結像素子5と接触する第1の面8Bと、光学箱1に接触する第2の面9Bとを非平行としてなる。 【選択図】 図10
公开日期2013-12-25
申请日期2011-10-20
状态授权
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/68439]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位株式会社リコー
推荐引用方式
GB/T 7714
添田 真弘,大杉 友哉,小嶋 晃. 光走査装置及び画像形成装置. JP5375923B2. 2013-10-04.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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