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光源装置及びプロジェクタ

文献类型:专利

作者近藤 秀樹; 山本 圭太
发表日期2016-07-11
专利号JP2016126083A
著作权人日亜化学工業株式会社
国家日本
文献子类发明申请
其他题名光源装置及びプロジェクタ
英文摘要【課題】光源装置のレンズに対する塵埃の付着を低減することのできる光源装置を提供する。 【解決手段】半導体レーザ駆動回路によりパルス駆動されて光を出射する半導体レーザを含む光源と、前記光源から出射された光の経路に配置される少なくとも1つのレンズと、前記レンズを支持するレンズホルダと、を備えた光源装置であって、前記半導体レーザが前記半導体レーザ駆動回路によりパルス駆動されるときに、前記レンズホルダが、磁歪効果により振動するように構成されることを特徴とする、光源装置である。 【選択図】図1
公开日期2016-07-11
申请日期2014-12-26
状态申请中
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/68540]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位日亜化学工業株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
近藤 秀樹,山本 圭太. 光源装置及びプロジェクタ. JP2016126083A. 2016-07-11.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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