高調波発生装置
文献类型：专利
| 作者 | 藤野 陽輔 |
| 发表日期 | 1995-01-17 |
| 专利号 | JP1995015077A |
| 著作权人 | ASAHI GLASS CO LTD |
| 国家 | 日本 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | 高調波発生装置 |
| 英文摘要 | 【目的】半導体レーザ(LD)の周波数制御を光帰還法で行う際、LDの周波数変動許容幅(ロッキングレンジ)を拡大しより高調波出力を安定化させる。 【構成】従来約2GHz程度のロッキングレンジ(LD1の注入電流変動許容幅、温度変動許容幅は約± 4mA、±0. 06℃)を、端面反射率を2%とすることにより、約3. 4GHz(同約±2. 4mA、約±0. 1℃)に拡大することができた。 |
| 公开日期 | 1995-01-17 |
| 申请日期 | 1993-06-23 |
| 状态 | 失效 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/69243]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | ASAHI GLASS CO LTD |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 藤野 陽輔. 高調波発生装置. JP1995015077A. 1995-01-17. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。