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光源装置

文献类型:专利

作者佐藤 亙
发表日期2003-11-21
专利号JP3495821B2
著作权人キヤノン株式会社
国家日本
文献子类授权发明
其他题名光源装置
英文摘要【目的】 レーザホルダの取付穴に半導体レーザを圧入したときの副成物によるトラブルを回避する。 【構成】 レーザホルダ20の鏡筒部分22はテーパー状の内面22aを有し、レーザホルダ20に対する半導体レーザ10の組み付けは、鏡筒部分22を経て半導体レーザ10をレーザホルダ20の取付穴21aに圧入することによって行なわれ、このとき取付穴21aが削られて発生する破片や微粉等は、半導体レーザ10の基部11が位置決め部材24に当接されて形成される密閉空間21bに閉じ込められる。
公开日期2004-02-09
申请日期1995-06-08
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/69296]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位キヤノン株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
佐藤 亙. 光源装置. JP3495821B2. 2003-11-21.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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