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半導体レーザ

文献类型:专利

作者河角 孝行
发表日期1999-05-21
专利号JP1999135886A
著作权人SONY CORP
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体レーザ
英文摘要【課題】AlGaInP系の半導体レーザにおけるp型可飽和吸収層のドーパント濃度を高くして、自励発振を好適に行わせる。 【解決手段】可飽和吸収層7を、GaInP系でなく、AlGaAs系の半導体層で構成し、そこに、Cを高濃度にドープする。 【効果】GaInP系へのZnドープに比較して高濃度ドープが可能となる。また、AlGaAs系におけるCの拡散は、GaInP系におけるZnの拡散と比較して格段に小さいので、高濃度ドープを行っても、そのドーパントの活性層4への拡散によるレーザ特性の劣化が起きない。
公开日期1999-05-21
申请日期1997-10-30
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/69380]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位SONY CORP
推荐引用方式
GB/T 7714
河角 孝行. 半導体レーザ. JP1999135886A. 1999-05-21.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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