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半導体レーザー装置

文献类型:专利

作者石田 裕之; 阿閉 誠
发表日期2003-03-14
专利号JP2003077160A
著作权人MATSUSHITA ELECTRIC IND CO LTD
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体レーザー装置
英文摘要【課題】 半導体レーザー装置を構成する部材の位置ずれを抑制することにより、半導体レーザー装置の光学特性変化を抑制する。 【解決手段】 記録媒体5にレーザー光を照射する半導体レーザー素子1と、前記半導体レーザー素子1から射出されたレーザー光の前記記録媒体5での戻り光を回折する回折格子6と、前記回折格子6によって回折された前記戻り光を受光する受光素子10と、前記半導体レーザー素子1および前記受光素子10を収容するパッケージ11と、前記パッケージ11を封止する封止基板2とを備えた半導体レーザー装置において、前記パッケージ11と前記封止基板2とを接着剤12を介して接着し、この接着部において、前記パッケージ11および前記封止基板2の少なくとも一方の接着面に凹部または凸部を形成した。
公开日期2003-03-14
申请日期2001-09-03
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/69665]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位MATSUSHITA ELECTRIC IND CO LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
石田 裕之,阿閉 誠. 半導体レーザー装置. JP2003077160A. 2003-03-14.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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