レーザ光量制御装置
文献类型:专利
作者 | 石川 弘美; 川井 康弘 |
发表日期 | 2003-04-11 |
专利号 | JP2003110188A |
著作权人 | FUJI PHOTO FILM CO LTD |
国家 | 日本 |
文献子类 | 发明申请 |
其他题名 | レーザ光量制御装置 |
英文摘要 | 【目的】 レーザ光源から射出されるレーザ光の一部をモニターしてレーザ光の光量を制御するレーザ光量制御装置において、装置の小型化、コストの削減を図る。 【構成】 レーザ光源10から射出されるレーザ光の光量を制御するためのモニター光を、集光レンズ20に設けられた反射面20aによりレーザ光の一部を反射することにより得る。 |
公开日期 | 2003-04-11 |
申请日期 | 2001-09-28 |
状态 | 失效 |
源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/69672] ![]() |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | FUJI PHOTO FILM CO LTD |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 石川 弘美,川井 康弘. レーザ光量制御装置. JP2003110188A. 2003-04-11. |
入库方式: OAI收割
来源:西安光学精密机械研究所
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