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レーザ光量制御装置

文献类型:专利

作者石川 弘美; 川井 康弘
发表日期2003-04-11
专利号JP2003110188A
著作权人FUJI PHOTO FILM CO LTD
国家日本
文献子类发明申请
其他题名レーザ光量制御装置
英文摘要【目的】 レーザ光源から射出されるレーザ光の一部をモニターしてレーザ光の光量を制御するレーザ光量制御装置において、装置の小型化、コストの削減を図る。 【構成】 レーザ光源10から射出されるレーザ光の光量を制御するためのモニター光を、集光レンズ20に設けられた反射面20aによりレーザ光の一部を反射することにより得る。
公开日期2003-04-11
申请日期2001-09-28
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/69672]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位FUJI PHOTO FILM CO LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
石川 弘美,川井 康弘. レーザ光量制御装置. JP2003110188A. 2003-04-11.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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