中国科学院机构知识库网格
Chinese Academy of Sciences Institutional Repositories Grid
半導体装置の製造方法

文献类型:专利

作者東條 友昭
发表日期2006-08-17
专利号JP2006216832A
著作权人MATSUSHITA ELECTRIC IND CO LTD
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体装置の製造方法
英文摘要【課題】 性能に優れた多数の半導体装置をウェハ単位で安価に一括製造しうる半導体装置の製造方法を提供する。 【解決手段】 第1の犠牲層123と第1の接合層124を介して、第2の基板120上に複数のミラー部136を接合する。複数のミラー部136を備えた第2の基板120と受光部117と回路が形成された半導体素子を複数有する第1の基板110との相対的な位置を調整しつつ、ミラー部136と半導体素子との各一部同士を接合する。第2の基板120を除去した後、第1の基板110を複数の半導体装置に分断する。 【選択図】図2
公开日期2006-08-17
申请日期2005-02-04
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/69889]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位MATSUSHITA ELECTRIC IND CO LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
東條 友昭. 半導体装置の製造方法. JP2006216832A. 2006-08-17.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

浏览0
下载0
收藏0
其他版本

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。