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半導体レーザ装置

文献类型:专利

作者井上 大二朗; 畑 雅幸; 別所 靖之
发表日期2011-04-22
专利号JP4726572B2
著作权人三洋電機株式会社
国家日本
文献子类授权发明
其他题名半導体レーザ装置
英文摘要【課題】 放熱性が良好な半導体レーザ装置を提供する。 【解決手段】 導電性の支持部材5上に、導電性の融着層Hが形成されている。融着層H上には、上面および下面に導電層31a,31bを備える絶縁性の副基板31が設けられている。副基板31の導電層31a上には、融着層Hを介して青紫色半導体レーザ素子10が接着されている。青紫色半導体レーザ素子10のn側パッド電極10b上に絶縁層32が設けられている。絶縁層32上には、赤色半導体レーザ素子20が接着される。この絶縁層32は、接着される赤色半導体レーザ素子20のリッジ部Riの領域と、その他の領域とで厚み(Z方向)が異なる。青紫色半導体レーザ素子10および赤色半導体レーザ素子20間ではカソードコモンの結線が実現されている。 【選択図】図2
公开日期2011-07-20
申请日期2005-08-09
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/69906]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位三洋電機株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
井上 大二朗,畑 雅幸,別所 靖之. 半導体レーザ装置. JP4726572B2. 2011-04-22.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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