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マルチビーム光源ユニット、光走査装置及び画像形成装置

文献类型:专利

作者増田 浩二
发表日期2012-06-15
专利号JP5013579B2
著作权人株式会社リコー
国家日本
文献子类授权发明
其他题名マルチビーム光源ユニット、光走査装置及び画像形成装置
英文摘要【課題】大型化及び高コスト化を招くことなく、複数の光ビームを安定して出射することができるマルチビーム光源ユニットを提供する。 【解決手段】シングルビーム光源LD1から出射されたTM偏光の光ビームはレンズ1で整形された後、偏光光学素子2に入射する。一方、シングルビーム光源LD2から出射されたTM偏光の光ビームは、レンズ4で整形され、λ/2板5でTE偏光とされた後、回折光学素子3で偏向されて偏光光学素子2に入射する。偏光光学素子2に入射した各光ビームは、互いに同一方向に出射される。これにより、偏光光学素子2に入射する各光ビームの入射方向を任意に設定することができる。 【選択図】図3
公开日期2012-08-29
申请日期2006-02-07
状态授权
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/69924]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位株式会社リコー
推荐引用方式
GB/T 7714
増田 浩二. マルチビーム光源ユニット、光走査装置及び画像形成装置. JP5013579B2. 2012-06-15.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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