露光装置
文献类型：专利
| 作者 | 土井 孝二 |
| 发表日期 | 2007-11-29 |
| 专利号 | JP2007307810A |
| 著作权人 | リコープリンティングシステムズ株式会社 |
| 国家 | 日本 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | 露光装置 |
| 英文摘要 | 【課題】 汚染物質による光出力の低下を防止し、安定した光記録が可能な露光装置を提供する。 【解決手段】 光出射ユニットの出射開口部(5)に設けた防塵ガラス(8)を、予め設定した基準値に達する毎に移動させ、出射開口部に防塵ガラスの未使用領域のガラス面を対向させる。また、光出射ユニットは半導体レーザ(1)を備えており、前記基準値は半導体レーザの累積点灯時間によって規定されている。 【選択図】図1 |
| 公开日期 | 2007-11-29 |
| 申请日期 | 2006-05-19 |
| 状态 | 失效 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/69937]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | リコープリンティングシステムズ株式会社 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 土井 孝二. 露光装置. JP2007307810A. 2007-11-29. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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