面発光レーザ、面発光レーザアレイ、光走査装置及び画像形成装置
文献类型：专利
| 作者 | 伊藤 彰浩; 軸谷 直人; 佐藤 俊一 |
| 发表日期 | 2016-04-28 |
| 专利号 | JP5923861B2 |
| 著作权人 | 株式会社リコー |
| 国家 | 日本 |
| 文献子类 | 授权发明 |
| 其他题名 | 面発光レーザ、面発光レーザアレイ、光走査装置及び画像形成装置 |
| 英文摘要 | (修正有) 【課題】単一横モードで、偏光方向が安定している、高出力面発光レーザを提供する。 【解決手段】基板111上に下部DBR層112と活性層114と上部DBR層115を形成し、前記活性層及び前記上部DBR層に形成したメサ130と、中央部分に開口部を有する上部電極118と、前記基板の裏面に形成された下部電極119とを有する面発光レーザにおいて、前記開口部内における光強度プロファイルのうち、基本横モード光のプロファイルの高い強度を示す領域である光出力中心部を含む第1の領域151と、前記開口部内における前記第1の領域以外の領域となる第2の領域152と、を有し、前記第1の領域は、前記光出力中心部と、前記光出力中心部から外側に突出する3つ以上の凸部151bを有し、前記第1の領域の反射率よりも前記第2の領域の反射率が高くなるように、前記第1の領域または前記第2の領域の少なくともいずれか一方に誘電体層を形成する。 【選択図】図9 |
| 公开日期 | 2016-05-25 |
| 申请日期 | 2011-03-17 |
| 状态 | 授权 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/70091]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 株式会社リコー |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 伊藤 彰浩,軸谷 直人,佐藤 俊一. 面発光レーザ、面発光レーザアレイ、光走査装置及び画像形成装置. JP5923861B2. 2016-04-28. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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