光源装置
文献类型:专利
作者 | 出島 範宏; 大森 雅樹 |
发表日期 | 2017-12-07 |
专利号 | JP2017216371A |
著作权人 | 日亜化学工業株式会社 |
国家 | 日本 |
文献子类 | 发明申请 |
其他题名 | 光源装置 |
英文摘要 | 【課題】 ホログラム記録再生に適用可能な光を安定して出力可能なコンパクトな光源装置を提供する。 【解決手段】 レーザ光を発するレーザ光源4と、レーザ光源からの出射光の一部を透過する回折格子6と、回転軸24を中心に回折格子6を回転させる回転機構20と、を備え、回折格子6からの戻り光がレーザ光源4に入射し、回折格子6を透過した光が出力光となる外部共振器型レーザ光源装置であって、レーザ光源4及び回折格子6の間の光路上に、前記レーザ光源からの出射光を前記回折格子に向けて入射光として反射する第1の反射ミラー8aを備え、レーザ光源4からの出射光が、該入射光の光路に対して回転軸24側から第1の反射ミラー8aに入射する外部共振器型レーザ光源装置2を提供する。 【選択図】図1 |
公开日期 | 2017-12-07 |
申请日期 | 2016-05-31 |
状态 | 申请中 |
源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/70275] ![]() |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | 日亜化学工業株式会社 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 出島 範宏,大森 雅樹. 光源装置. JP2017216371A. 2017-12-07. |
入库方式: OAI收割
来源:西安光学精密机械研究所
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