光源装置
文献类型：专利
| 作者 | 出島 範宏 |
| 发表日期 | 2018-04-05 |
| 专利号 | JP2018056498A |
| 著作权人 | 日亜化学工業株式会社 |
| 国家 | 日本 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | 光源装置 |
| 英文摘要 | 【課題】 高出力の半導体レーザを備えた場合であっても効果的に冷却が可能であって、かつ効率的な機器配置により小型化が可能な光源装置を提供する。 【解決手段】 上方に向かって隆起した隆起部4を有し、隆起部4に対応する領域において下方に向かって開口し冷却流体が流れる凹空間6を有する基材2と、隆起部4の頂面4Aに取り付けられ、頂面4Aからから側方へ伸び、頂面4Aと垂直をなす方向よりも頂面4Aと平行をなす方向に高い熱伝導性を有する異方性熱伝導材料からなるベースプレート10と、ベースプレート10の下面における隆起部4から離れた領域に取り付けられた半導体レーザ20とを備える光源装置50を提供する。 【選択図】 図1 |
| 公开日期 | 2018-04-05 |
| 申请日期 | 2016-09-30 |
| 状态 | 申请中 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/70290]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 日亜化学工業株式会社 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 出島 範宏. 光源装置. JP2018056498A. 2018-04-05. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。