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半導体レーザ素子およびその製造方法

文献类型:专利

作者細井 洋治
发表日期1994-11-25
专利号JP1994326399A
著作权人沖電気工業株式会社
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体レーザ素子およびその製造方法
英文摘要【構成】 コンタクト層16を有するダブルヘテロ接合型の半導体レーザー素子において、金属配線18がダブルチャネル17を横断する領域のみ残してダブルチャネル17を形成した後に前記領域のコンタクト層16下部のInP結晶をエッチングして、コンタクト層ブリッジ20を形成する。そしてこのコンタクト層ブリッジ20を用いて、ダブルチャネル17中央から外部のワイヤボンド用の電極パッドまで電極を配線する。 【効果】 ダブルチャネルの外でボンディング可能となるので、ボンディング時の歪が活性層14に直接作用して悪影響を与えることはない。さらに、金属配線形成に一般的な真空蒸着法を用いた場合であっても、蒸着した金属のダブルチャネル17部分の段差による断線を防止することができる。
公开日期1994-11-25
申请日期1993-05-11
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/71182]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位沖電気工業株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
細井 洋治. 半導体レーザ素子およびその製造方法. JP1994326399A. 1994-11-25.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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